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Résumé

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

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Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2019-06
    Stade
    : Norme internationale en cours d'examen systématique [90.20]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS mises à jour

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9
Industrie, innovation et infrastructure

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