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Résumé

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

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Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2014-08
    Stade
    : Norme internationale confirmée [90.93]
  • Edition
     : 2
  • Comité technique :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

Cycle de vie

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue aux Objectifs de développement durable suivants

7
Énergie propre et d'un coût abordable
9
Industrie, innovation et infrastructure

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